DB-FIB雙束聚焦離子束顯微鏡-顯微分析技術(shù)測試

【FinFET結(jié)構(gòu)原子級表征案例】

FinFET作為先進制程核心結(jié)構(gòu)，其柵極寬度與界面質(zhì)量直接影響芯片性能。通過DB-FIB制備FinFET超薄切片，利用TEM獲得原子級形貌與晶格圖像。案例顯示，我們成功解析了3nm芯片中Fin的側(cè)壁粗糙度、柵氧層厚度與界面缺陷，為客戶提供工藝優(yōu)化依據(jù)?！緩V電計量SEM/TEM測試服務(wù)】涵蓋晶圓級制造與失效分析，結(jié)合EDS進行成分映射，全面支撐高端芯片研發(fā)與量產(chǎn)。

【3D TEM法在芯片失效分析中的創(chuàng)新】
3D TEM法通過連續(xù)切片與圖像重構(gòu)，實現(xiàn)芯片缺陷的三維可視化。將DB-FIB與TEM結(jié)合，應(yīng)用于熱點、孔洞、裂紋等立體缺陷分析。案例中，我們通過該方法成功定位某一先進制程芯片的層間短路點，為客戶提供立體失效機制報告。【廣電計量SEM/TEM測試服務(wù)】不僅提升分析深度，還縮短診斷周期，成為復(fù)雜故障排查的利器。

【產(chǎn)學研合作與行業(yè)標準貢獻】
積極與南京大學、上海交大等高校合作，聯(lián)合編寫《聚焦離子束：應(yīng)用與實踐》等專業(yè)著作，推動FIB技術(shù)標準化與普及。參與行業(yè)標準制定，推動設(shè)備與材料國產(chǎn)化，構(gòu)建自主可控的檢測生態(tài)?！緩V電計量電鏡掃描測試】該合作不僅提升技術(shù)深度，還強化了在行業(yè)中的影響力與公信力。