文章摘要: 1.PVD鍍膜機陰極電弧過濾:電磁過濾系統(tǒng)配備離子源,可過濾掉等離子體中產(chǎn)生的宏觀顆粒和離子。磁過濾后沉積顆粒的電離率為100%,顆??梢员贿^濾掉。因此,所制備的薄膜非常致密光滑,具有良好的耐腐蝕性,并且具有非常強的車身附著力。2.PVD鍍膜機增強型磁控
1.PVD鍍膜機陰極電弧過濾:電磁過濾系統(tǒng)配備離子源,可過濾掉等離子體中產(chǎn)生的宏觀顆粒和離子。磁過濾后沉積顆粒的電離率為100%,顆??梢员贿^濾掉。因此,所制備的薄膜非常致密光滑,具有良好的耐腐蝕性,并且具有非常強的車身附著力。
2.PVD鍍膜機增強型磁控管陰極電弧:陰極電弧技術在真空條件下通過低電壓、大電流將靶材去離子成離子狀態(tài),從而完成薄膜材料的沉積。增強型磁控管陰極電弧可以通過電磁場的相互作用,有效控制靶材表層的電弧,使材料具有更高的電離速率和更好的薄膜性能。
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3.PVD鍍膜機離子束:碳氫氣體在離子源中電離成等離子體,在電磁場的共同作用下,碳離子從離子源中釋放出來。離子束的能量通過調(diào)節(jié)施加到等離子體的電壓來控制。當將碳氫離子束引入襯底時,沉積速率與離子電流密度成比例。PVD鍍膜機的離子束源采用高電壓、大離子能量,使薄膜與基體結合良好。離子電流越大,類金剛石薄膜的沉積速度越快。離子束技術的主要優(yōu)勢在于沉積超薄多層結構,工藝控制精度可達數(shù)埃,工藝中顆粒污染造成的缺點可降至低。
4.PVD鍍膜機磁控濺射:在真空環(huán)境下,在電壓和磁場的共同作用下,離子化的惰性氣體離子轟擊靶材,使靶材以離子、原子或分子的形式噴射沉積在襯底上,形成薄膜。導電和不導電材料都可以濺射成靶,這取決于所用的電離電源。
PVD鍍膜機分層技術
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