文章摘要: 隨著鍍膜技術(shù)的發(fā)展,各種真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備逐漸出現(xiàn)。無論哪種真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備,薄膜的均勻性都會受到一些因素的影響?,F(xiàn)在,我們用磁控濺射鍍膜機(jī)來分析成膜不均勻的因素。涂布機(jī)泵送不均勻會影響涂布均勻性?;赘蓛艉苤匾?。真空鍍膜前,應(yīng)仔細(xì)清理基材表
隨著鍍膜技術(shù)的發(fā)展,各種真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備逐漸出現(xiàn)。無論哪種真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備,薄膜的均勻性都會受到一些因素的影響?,F(xiàn)在,我們用磁控濺射鍍膜機(jī)來分析成膜不均勻的因素。涂布機(jī)泵送不均勻會影響涂布均勻性?;赘蓛艉苤匾U婵斟兡で?,應(yīng)仔細(xì)清理基材表層,以達(dá)到工件除油、去污、脫水的目的。基材表層污染來源于各種灰塵、油脂、拋光膏、汗?jié)n等。在加工和運輸過程當(dāng)中附著在零件上。在潮濕的環(huán)境中,基材表層容易氧化,形成氧化膜吸收氣體。這些污漬可以通過除油或化學(xué)方法來清除。干凈的基板不應(yīng)直接放在外面,而應(yīng)儲存在封閉的容器中,以減少污染?;覊m會堆積在涂裝室,所以清理涂裝室,烘烤和脫氣,并將機(jī)器放置在干凈的環(huán)境中。注意擴(kuò)散泵的回油。涂料的原料有很多,如樹脂、有機(jī)硅、硅酸、聚合物等。輔料配比和配方不同,薄膜也不同。
涂布機(jī)的熱蒸發(fā)系統(tǒng)主要是指成膜裝置。涂布機(jī)中有許多成膜裝置,包括電阻加熱、電子槍蒸發(fā)、磁控濺射、射頻濺射、離子鍍等。我們將介紹電阻加熱和電子槍蒸發(fā)這兩種方法,因為這兩種方法被我們廣泛使用。從其結(jié)構(gòu)和工作原理來看,蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的電阻蒸發(fā)是目前應(yīng)用最廣泛的蒸發(fā)方式,也是應(yīng)用時間最長的蒸發(fā)方式。
它的工作方式是將鎢片制成舟,然后安裝在兩個電極之間,在舟的中心加入藥材,然后慢慢給電極通電。電流通過船,船通電加熱。這些低電壓和高電流使得具有高熔點的舟產(chǎn)生熱量,然后熱量被傳導(dǎo)到涂層材料。當(dāng)舟的熱量高于涂層材料的熔點時,材料會升華或蒸發(fā)。該方法操作方便,結(jié)構(gòu)簡單,成本低廉,易于使用。當(dāng)鎢舟蒸發(fā)涂層材料時,材料的熔點必須低于鎢舟的熔點,否則無法進(jìn)行。
真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備為什么要配冷水機(jī)?
這要從真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的工作原理來看:膜料在高溫下蒸發(fā),落到工件表層結(jié)晶。因為空氣會對蒸發(fā)的薄膜分子產(chǎn)生阻力,從而引起碰撞,使晶體變得粗糙、暗淡,所以需要在高真空下使晶體變得細(xì)小、光亮。真空度不高,晶體會失去光澤,結(jié)合力差。冷水機(jī)組配有制冷系統(tǒng)和冷卻水循環(huán)系統(tǒng),水溫可在5℃ ~ 30℃范圍內(nèi)調(diào)節(jié)控制,可達(dá)到高精度、高效率控溫的目的。冷卻原理是:冷卻系統(tǒng)將水冷卻,然后低溫冷卻水由水泵送至真空鍍膜機(jī)冷卻。水冷器的冷凍水帶走熱量,升溫后流回水箱,達(dá)到冷卻效果。
蒸發(fā)鍍膜設(shè)備成膜不均的原因
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