新昌原材料信息
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唐山印尼進口月桂酸
沸點（oC,常壓）：298.7（常壓）、225（13.3kpa） 閃點（oC）：>110 折射率(n82D)：1.4183（82℃）、1.4323（45℃）產(chǎn)品服務(wù) 目前公司經(jīng)營的產(chǎn)品品種齊全，且各個產(chǎn)品多，指標有所差異，價格有高低，在客戶采購產(chǎn)品時，做出差異化供應(yīng)。這類衍生物中的十二烷基二甲基銨-2，4，80002024-04-19
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高溫涂層與陶瓷材料三氟化釔
? 金屬釔制備的核心原料：熔融鹽電解 YF?（常搭配 LiF 等助熔劑）是工業(yè)生產(chǎn)金屬釔的主要工藝；金屬釔用于稀土鎂 / 鋁 / 鋯合金改性，提升高溫強度、耐腐蝕性與焊接性能，應(yīng)用于航空發(fā)動機、高溫爐具部件。 ? 光學與激光材料：中紅外高透光 + 低折射率，作為紅外窗口、激新昌面議2026-03-04 -
三氟化釔粉末13709-49-4
三氟化釔無水粉末13709-49-4 分子式:YF3 用途:紅外薄膜,光釬摻雜,紅外波段的優(yōu)良材料。氟化釔在半導體里穩(wěn)定發(fā)揮，提升器件性能。 高溫部件涂層： 高純度的氟化釔粉末熔點高（約 1377），可作為高溫防護涂層材料，用于航天器發(fā)動機噴嘴、燃燒室壁面等高溫部件，增強其新昌面議2026-03-04 -
鈰銨 16774-21-3現(xiàn)貨報價
在酸性條件下，Ce??將金屬 Cr 氧化為可溶性 Cr3?，自身被還原為 Ce3?： 二元掩模（Binary Mask）：芯片、面板、MEMS 的標準鉻掩模圖形化 相位偏移掩模（PSM）：半色調(diào) / 衰減型 PSM 的鉻層蝕刻 掩模返工：不合格鉻層整體去除、基板回收 reuse 科研 / 小批量：實驗室鉻掩新昌面議2026-03-04 -
光掩模鉻層蝕刻16774-21-3 鈰銨專供
鈰銨是鉻掩模標準蝕刻液核心成分： 選擇性好，不傷及光刻膠、玻璃 線寬精度高，用于芯片、面板掩膜版 晶圓清洗與表面處理 強氧化性，去除有機物、金屬雜質(zhì)，提高后續(xù)成膜 / 鍵合良率。 2. 顯示面板（LCD / OLED / TFT） ITO 透明導電膜蝕刻液 用于蝕刻 ITO、IZO 等透新昌面議2026-03-04 -
氟化鈰 光學鍍膜材料
三氟化鈰CeF3是一種無機化合物，又稱氟化鈰(III)，CAS號為7758-88-5，屬于稀土氟化物。其晶體屬六方晶系，具有寬透過波段和低聲子能量特性，可用于激光基質(zhì)材料和磁光隔離器。氟化鈰廠家、氟化鈰批發(fā)、氟化鈰氟化物 關(guān)于氟化鈰的主要介紹 英文名稱:Cerium fluoride 分子式:新昌面議2026-03-04 -
電子級 CAN 用來制備納米 CeO? 磨料
can鈰銨在電子材料里主要干兩件事： 高純 Ce?? 前驅(qū)體：做氧化鈰基薄膜、拋光液、功能材料 選擇性氧化劑 / 蝕刻劑：用于光掩模、金屬線路、透明導電膜蝕刻 1. 半導體 & 集成電路 CMP 拋光液（化學機械拋光） 電子級 CAN 用來制備納米 CeO? 磨料，用于： 硅晶圓平坦化新昌面議2026-03-04 -
鈰銨用于抗反射膜（AR 膜）
鈰銨（CAN）是制備氧化鈰（CeO?）抗反射膜（AR 膜）的核心高純鈰源，憑借高水溶性、易提純、成膜均勻等優(yōu)勢，廣泛用于太陽能電池、光學器件、顯示面板等領(lǐng)域，核心是通過光干涉效應(yīng)實現(xiàn)減反射與增透。水溶性極佳：易溶于水 / 醇，適配溶膠 - 凝膠、旋涂、浸涂等濕法工藝，分新昌面議2026-03-04 -
鈰銨氧化劑can 透明導電膜蝕刻
鈰銨在電子材料里主要干兩件事： 高純 Ce?? 前驅(qū)體：做氧化鈰基薄膜、拋光液、功能材料 選擇性氧化劑 / 蝕刻劑：用于光掩模、金屬線路、透明導電膜蝕刻 1. 半導體 & 集成電路 CMP 拋光液（化學機械拋光） 電子級 CAN 用來制備納米 CeO? 磨料，用于： 硅晶圓平坦化 Si新昌面議2026-03-04 -
高純度 CAN 溶液 鈰銨鉻掩模蝕刻
化學機械拋光（CMP） 納米 CeO?磨料前驅(qū)體：高純度 CAN（≥5N）經(jīng)熱解 / 水熱法制備單分散 CeO?納米磨料，用于晶圓、SiC/GaN 襯底、銅互連的全局平坦化。 性能優(yōu)勢：莫氏硬度 6.5，實現(xiàn)原子級平整度（Ra≤0.1nm）；SiC 去除速率達 1500–2000 ?/min（較 SiO?提升 3 倍），缺新昌面議2026-03-04 -
氧化釔穩(wěn)定氧化鋯
氧化鋯（Zirconia, 化學式 ZrO?）因其兼具陶瓷的高硬度、耐高溫、耐腐蝕特性，以及接近金屬的高韌性和高強度。氧化鋯 → 燒結(jié)粉末 → 成型 → 陶瓷新昌面議2026-03-04 -
釔穩(wěn)定氧化鋯（YSZ）
燒結(jié)粉末成型陶瓷片以釔穩(wěn)定氧化鋯（YSZ） 為主： 3Y-TZP 結(jié)構(gòu)陶瓷片 刀具墊片、閥片、軸承片，抗彎強度 ≥1200 MPa，斷裂韌性 ≥7 MPa?m1?2 8YSZ 固體電解質(zhì)片 汽車氧傳感器、SOFC 單電池片，1000℃氧離子電導優(yōu)異，耐高溫腐蝕 耐火 / 測溫保護片 有色金屬熔煉測溫探頭新昌面議2026-03-04 -
氧化釔在特種鋼與有色金屬的改性劑
在鋼鐵、鎂合金、鋁合金和銅合金的熔煉過程中，加入氧化釔（通常先還原為金屬釔或以中間合金形式加入）可起到“冶金維生素”的作用。 脫硫與脫氧： 釔對硫（S）和氧（O）的親和力極強。加入氧化釔后可生成高熔點的 Y?O? 或 Y?S? 夾雜物。 關(guān)鍵點：這些夾雜物通常呈球狀、細新昌面議2026-03-04 -
氧化釔（Y?O?）-冶金材料
氧化釔是重要的稀土冶金添加劑、變質(zhì)劑、精煉劑，主要用于特種鋼、高溫合金、鈦合金、磁性材料、稀土金屬冶煉，起到凈化、細化、改性、耐高溫、抗氧化作用。 二、在冶金中的主要作用 脫氧、脫硫、凈化鋼液 強脫氧、脫硫能力，降低鋼中夾雜物 改善鋼材塑性、韌性、疲勞性新昌面議2026-03-04 -
高端耐火材料氧化釔（三氧化二釔）
氧化釔本身熔點極高（約 2410℃），且化學性質(zhì)非常穩(wěn)定，是制造超高溫耐火材料的關(guān)鍵原料。 坩堝與容器： 用于熔煉高純度活性金屬（如鈦、鋯、鈾、钚）及其合金。 優(yōu)勢：Y?O? 不與這些活性金屬發(fā)生反應(yīng)（潤濕性差），也不會向熔體中引入雜質(zhì)（如碳、硅），保證了金屬的高新昌面議2026-03-04 -
氧化鋯纖維 高頻陶瓷、研磨材料
合成原料 用于制金屬鋯和鋯化合物、制耐火磚和坩鍋、高頻陶瓷、研磨材料、陶瓷顏料和鋯酸鹽等主要用于壓電陶瓷制品、日用陶瓷、耐火材料及貴重金屬熔煉用的鋯磚、鋯管、坩堝等。也用于生產(chǎn)鋼及有色金屬、光學玻璃和二氧化鋯纖維。還用于陶瓷顏料、靜電涂料及烤漆。用于環(huán)氧新昌面議2026-03-04 -
燒結(jié)粉末成型陶瓷材料氧化鋯80-100目
制粉 高純氧化鋯粉末 + 穩(wěn)定劑（Y?O?）+ 燒結(jié)助劑 → 混合、砂磨、噴霧干燥 → 得到可直接成型的氧化鋯造粒粉。 成型 干壓成型 冷等靜壓（CIP） 注射成型（MIM） 澆注 / 擠出成型 得到生坯（Green body）。 脫脂 / 預燒 去除粘結(jié)劑，提高生坯強度。 高溫燒結(jié) 溫度新昌面議2026-03-04 -
氧化鋯有高熔點、高硬度、化學穩(wěn)定性好、離子導電性突出?的特點
二氧化鋯具有高熔點、高硬度、化學穩(wěn)定性好、離子導電性突出?的特點。 陶瓷刀具、剪刀、剃須刀?：高強度、無金屬離子釋放、食品級安全 ? ?軸承、閥門、泵零件?：耐高溫、自潤滑、抗腐蝕，適用于極端環(huán)境（如航空、化工）? ?拉絲模、噴嘴、磨球?：高密度與高硬度，顯新昌面議2026-03-04 -
壓片陶瓷材料氧化鋯100目
氧化鋯陶瓷是以高純氧化鋯粉末為原料，添加氧化釔等穩(wěn)定劑，通過粉末造粒、壓力成型、高溫燒結(jié)致密化制備而成的高性能結(jié)構(gòu)陶瓷。具有高強度、高韌性、高硬度、耐高溫、耐腐蝕、生物相容性好等優(yōu)異綜合性能，廣泛應(yīng)用于光通訊、汽車電子、新能源、生物醫(yī)療、消費電子、精密機新昌面議2026-03-04 -
微米級氧化鋯 鍍膜材料
高純氧化鋯粉體：通常使用經(jīng)過穩(wěn)定化處理（如添加3mol%氧化釔 Y?O?，形成3Y-TZP）的納米或亞微米級氧化鋯粉體。 添加劑：包括粘結(jié)劑（如PVA、PEG）、塑化劑、分散劑等，用于改善粉體的流動性和成型性能。 電子行業(yè)：絕緣基板、傳感器元件、光纖連接器插芯。 醫(yī)療領(lǐng)域：牙新昌面議2026-03-04
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