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腐植酸鈉供應(yīng)|烏海型煤粘合劑40%的腐植酸鈉粉末
（HA—Na）為烏黑晶亮，閃者漂亮光澤的片狀或粉狀。它無毒無臭無腐蝕，易于水。系采用含腐植酸的低鈣低鎂風(fēng)化煤經(jīng)化學(xué)提煉而成，它是多功能的高分子化合物，含有羥基，醌基，羧基等較多的活性基團(tuán)，具有很大的內(nèi)表面積，有較強(qiáng)的吸附，交換，絡(luò)合，螯合能力。腐植酸鈉經(jīng)中科8602024-07-29 -
紅橋原裝金鸝氫化豆油代理商
在片劑中生產(chǎn)還可以用作輔助粘合劑。氫化大豆油是親脂性控釋制劑系統(tǒng)中常用的骨架材料，也可以在控釋制劑用作包衣輔助劑。氫化大豆油可以用作油性液體制劑或半固體制劑的粘度調(diào)節(jié)劑。在部分高端軟膏制劑中，可以替代硬脂酸以形成更細(xì)膩膏體。氫化大豆油是一種常見的植物油，90002024-06-01 -
津南原裝馬石油三乙醇胺經(jīng)銷商
性狀:無色至淡黃色透明粘稠液體，微有氨味，低溫時(shí)成為無色至淡黃色立方晶系晶體。露置于空氣中時(shí)顏色漸漸變深。易溶于水、乙醇、丙酮、甘油及乙二醇等，微溶于苯、乙醚及四氯化碳等，在非極性溶劑中幾乎不溶解。三乙醇胺的堿性比氨弱(pKa7.82)，具有叔胺和醇的性質(zhì)。與有機(jī)110002024-05-16 -
石柱月桂酸
沸點(diǎn)（oC,常壓）：298.7（常壓）、225（13.3kpa） 閃點(diǎn)（oC）：>110 折射率(n82D)：1.4183（82℃）、1.4323（45℃）溶解性：不溶于水，可溶于甲醇、、氯仿等，微溶于和石油醚。 常溫折射率（n25）：1.430450 相對密度（25℃，4℃）：0.867550檢測項(xiàng)目 范圍值 Acid value 酸值 2780002024-04-22
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高溫涂層與陶瓷材料三氟化釔
? 金屬釔制備的核心原料：熔融鹽電解 YF?（常搭配 LiF 等助熔劑）是工業(yè)生產(chǎn)金屬釔的主要工藝；金屬釔用于稀土鎂 / 鋁 / 鋯合金改性，提升高溫強(qiáng)度、耐腐蝕性與焊接性能，應(yīng)用于航空發(fā)動(dòng)機(jī)、高溫爐具部件。 ? 光學(xué)與激光材料：中紅外高透光 + 低折射率，作為紅外窗口、激玉樹面議2026-03-04 -
三氟化釔粉末13709-49-4
三氟化釔無水粉末13709-49-4 分子式:YF3 用途:紅外薄膜,光釬摻雜,紅外波段的優(yōu)良材料。氟化釔在半導(dǎo)體里穩(wěn)定發(fā)揮，提升器件性能。 高溫部件涂層： 高純度的氟化釔粉末熔點(diǎn)高（約 1377），可作為高溫防護(hù)涂層材料，用于航天器發(fā)動(dòng)機(jī)噴嘴、燃燒室壁面等高溫部件，增強(qiáng)其玉樹面議2026-03-04 -
鈰銨 16774-21-3現(xiàn)貨報(bào)價(jià)
在酸性條件下，Ce??將金屬 Cr 氧化為可溶性 Cr3?，自身被還原為 Ce3?： 二元掩模（Binary Mask）：芯片、面板、MEMS 的標(biāo)準(zhǔn)鉻掩模圖形化 相位偏移掩模（PSM）：半色調(diào) / 衰減型 PSM 的鉻層蝕刻 掩模返工：不合格鉻層整體去除、基板回收 reuse 科研 / 小批量：實(shí)驗(yàn)室鉻掩玉樹面議2026-03-04 -
光掩模鉻層蝕刻16774-21-3 鈰銨專供
鈰銨是鉻掩模標(biāo)準(zhǔn)蝕刻液核心成分： 選擇性好，不傷及光刻膠、玻璃 線寬精度高，用于芯片、面板掩膜版 晶圓清洗與表面處理 強(qiáng)氧化性，去除有機(jī)物、金屬雜質(zhì)，提高后續(xù)成膜 / 鍵合良率。 2. 顯示面板（LCD / OLED / TFT） ITO 透明導(dǎo)電膜蝕刻液 用于蝕刻 ITO、IZO 等透玉樹面議2026-03-04 -
氟化鈰 光學(xué)鍍膜材料
三氟化鈰CeF3是一種無機(jī)化合物，又稱氟化鈰(III)，CAS號為7758-88-5，屬于稀土氟化物。其晶體屬六方晶系，具有寬透過波段和低聲子能量特性，可用于激光基質(zhì)材料和磁光隔離器。氟化鈰廠家、氟化鈰批發(fā)、氟化鈰氟化物 關(guān)于氟化鈰的主要介紹 英文名稱:Cerium fluoride 分子式:玉樹面議2026-03-04 -
電子級 CAN 用來制備納米 CeO? 磨料
can鈰銨在電子材料里主要干兩件事： 高純 Ce?? 前驅(qū)體：做氧化鈰基薄膜、拋光液、功能材料 選擇性氧化劑 / 蝕刻劑：用于光掩模、金屬線路、透明導(dǎo)電膜蝕刻 1. 半導(dǎo)體 & 集成電路 CMP 拋光液（化學(xué)機(jī)械拋光） 電子級 CAN 用來制備納米 CeO? 磨料，用于： 硅晶圓平坦化玉樹面議2026-03-04 -
鈰銨用于抗反射膜（AR 膜）
鈰銨（CAN）是制備氧化鈰（CeO?）抗反射膜（AR 膜）的核心高純鈰源，憑借高水溶性、易提純、成膜均勻等優(yōu)勢，廣泛用于太陽能電池、光學(xué)器件、顯示面板等領(lǐng)域，核心是通過光干涉效應(yīng)實(shí)現(xiàn)減反射與增透。水溶性極佳：易溶于水 / 醇，適配溶膠 - 凝膠、旋涂、浸涂等濕法工藝，分玉樹面議2026-03-04 -
鈰銨氧化劑can 透明導(dǎo)電膜蝕刻
鈰銨在電子材料里主要干兩件事： 高純 Ce?? 前驅(qū)體：做氧化鈰基薄膜、拋光液、功能材料 選擇性氧化劑 / 蝕刻劑：用于光掩模、金屬線路、透明導(dǎo)電膜蝕刻 1. 半導(dǎo)體 & 集成電路 CMP 拋光液（化學(xué)機(jī)械拋光） 電子級 CAN 用來制備納米 CeO? 磨料，用于： 硅晶圓平坦化 Si玉樹面議2026-03-04 -
高純度 CAN 溶液 鈰銨鉻掩模蝕刻
化學(xué)機(jī)械拋光（CMP） 納米 CeO?磨料前驅(qū)體：高純度 CAN（≥5N）經(jīng)熱解 / 水熱法制備單分散 CeO?納米磨料，用于晶圓、SiC/GaN 襯底、銅互連的全局平坦化。 性能優(yōu)勢：莫氏硬度 6.5，實(shí)現(xiàn)原子級平整度（Ra≤0.1nm）；SiC 去除速率達(dá) 1500–2000 ?/min（較 SiO?提升 3 倍），缺玉樹面議2026-03-04 -
氧化釔穩(wěn)定氧化鋯
氧化鋯（Zirconia, 化學(xué)式 ZrO?）因其兼具陶瓷的高硬度、耐高溫、耐腐蝕特性，以及接近金屬的高韌性和高強(qiáng)度。氧化鋯 → 燒結(jié)粉末 → 成型 → 陶瓷玉樹面議2026-03-04 -
氧化釔在特種鋼與有色金屬的改性劑
在鋼鐵、鎂合金、鋁合金和銅合金的熔煉過程中，加入氧化釔（通常先還原為金屬釔或以中間合金形式加入）可起到“冶金維生素”的作用。 脫硫與脫氧： 釔對硫（S）和氧（O）的親和力極強(qiáng)。加入氧化釔后可生成高熔點(diǎn)的 Y?O? 或 Y?S? 夾雜物。 關(guān)鍵點(diǎn)：這些夾雜物通常呈球狀、細(xì)玉樹面議2026-03-04 -
氧化釔（Y?O?）-冶金材料
氧化釔是重要的稀土冶金添加劑、變質(zhì)劑、精煉劑，主要用于特種鋼、高溫合金、鈦合金、磁性材料、稀土金屬冶煉，起到凈化、細(xì)化、改性、耐高溫、抗氧化作用。 二、在冶金中的主要作用 脫氧、脫硫、凈化鋼液 強(qiáng)脫氧、脫硫能力，降低鋼中夾雜物 改善鋼材塑性、韌性、疲勞性玉樹面議2026-03-04 -
高端耐火材料氧化釔（三氧化二釔）
氧化釔本身熔點(diǎn)極高（約 2410℃），且化學(xué)性質(zhì)非常穩(wěn)定，是制造超高溫耐火材料的關(guān)鍵原料。 坩堝與容器： 用于熔煉高純度活性金屬（如鈦、鋯、鈾、钚）及其合金。 優(yōu)勢：Y?O? 不與這些活性金屬發(fā)生反應(yīng)（潤濕性差），也不會向熔體中引入雜質(zhì)（如碳、硅），保證了金屬的高玉樹面議2026-03-04 -
氧化鋯纖維 高頻陶瓷、研磨材料
合成原料 用于制金屬鋯和鋯化合物、制耐火磚和坩鍋、高頻陶瓷、研磨材料、陶瓷顏料和鋯酸鹽等主要用于壓電陶瓷制品、日用陶瓷、耐火材料及貴重金屬熔煉用的鋯磚、鋯管、坩堝等。也用于生產(chǎn)鋼及有色金屬、光學(xué)玻璃和二氧化鋯纖維。還用于陶瓷顏料、靜電涂料及烤漆。用于環(huán)氧玉樹面議2026-03-04 -
氧化鋯有高熔點(diǎn)、高硬度、化學(xué)穩(wěn)定性好、離子導(dǎo)電性突出?的特點(diǎn)
二氧化鋯具有高熔點(diǎn)、高硬度、化學(xué)穩(wěn)定性好、離子導(dǎo)電性突出?的特點(diǎn)。 陶瓷刀具、剪刀、剃須刀?：高強(qiáng)度、無金屬離子釋放、食品級安全 ? ?軸承、閥門、泵零件?：耐高溫、自潤滑、抗腐蝕，適用于極端環(huán)境（如航空、化工）? ?拉絲模、噴嘴、磨球?：高密度與高硬度，顯玉樹面議2026-03-04 -
微米級氧化鋯 鍍膜材料
高純氧化鋯粉體：通常使用經(jīng)過穩(wěn)定化處理（如添加3mol%氧化釔 Y?O?，形成3Y-TZP）的納米或亞微米級氧化鋯粉體。 添加劑：包括粘結(jié)劑（如PVA、PEG）、塑化劑、分散劑等，用于改善粉體的流動(dòng)性和成型性能。 電子行業(yè)：絕緣基板、傳感器元件、光纖連接器插芯。 醫(yī)療領(lǐng)域：牙玉樹面議2026-03-04
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